chemical vapor deposition cvd coating furnace

Nhà >

chemical vapor deposition cvd coating furnace Nhà sản xuất trực tuyến

Tất cả các sản phẩm

Lò nung Sinter HIP

(141)

Lò thiêu kết áp suất khí

(62)

Lò nung chân không

(75)

Lò nung thiêu kết MIM

(49)

Lò nung kim loại

(39)

Lò chân không công nghiệp

(39)

Lò chân không nhiệt độ cao

(36)

Lò xử lý nhiệt chân không

(41)

Lò nung gốm

(25)

Lò chân không cao

(21)

Sintering Furnace Accessoriesfunction gtElInit() {var lib = new google.translate.TranslateService();

(5)

Lò nung silic cacbua

(21)

Máy sơn CVD

(33)

Liên hệ với chúng tôi

86--16673365810

shirley.xiao@zzrde.com

86-0731-22506328-22506328

Liên hệ ngay bây giờ

chemical vapor deposition cvd coating furnace (18) Nhà sản xuất trực tuyến

Ứng dụng Cvd Phòng thí nghiệm lò hút bụi Chất hóa học hấp lắng đọng Cvd phủ lò

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Các loại lớp phủ: TiC,TiN,TiCN,a-AL2O3,K-AI2O3

Nhận được giá tốt nhất

MT-CVD HT-CVD bếp sơn với chất lượng sơn tuyệt vời và lò phản ứng tùy biến

Nhiệt độ lớp phủ: 200-1050°C

Hệ thống làm mát: 2 bộ bẫy ngưng tụ làm mát bằng nước hiệu suất cao

Nhận được giá tốt nhất

Cung bếp lớp phủ CVD gốm Honeycomb cho nhiệt độ quy trình 700-1050C và chất trung hòa khí tùy chọn

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Tiền chất và khí xử lý: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Nhận được giá tốt nhất

Lò bếp lớp phủ CVD có bánh bao bọc cuộn với các tiền thân CO và bộ phân phối khí giai đoạn thứ hai

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Tiền chất và khí xử lý: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Nhận được giá tốt nhất

Cửa nắp lớp phủ lắng đọng hơi hóa học với TiCL4,AICL3 tiền chất và khí quá trình

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Tiền chất và khí xử lý: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Nhận được giá tốt nhất

Cửa nắp lớp phủ lắng đọng hơi hóa học cho công cụ cắt carbure xi măng / tungsten

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Tiền chất và khí xử lý: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Nhận được giá tốt nhất

AICL3 tiền thân lò lắng đọng hơi hóa học cho công cụ cắt ở nhiệt độ quy trình 700-1050C

Process temperature((℃): 700-1050

Precursors and process gases: TiCL4,AICL3,CH3CN,H2,N2,Ar,CH,CO,CO2,HCI,H2S

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

RDE Máy sơn Silicon Carbide CVD lò lắng đọng hơi hóa học

Không gian hiệu quả (mm): 1000*1000*1500

Công suất sưởi (KVA): 300

Nhận được giá tốt nhất

Cốc phủ CVD Silicon Carbide cho graphite susceptor hoặc vòng khắc

chi tiết đóng gói: Vỏ gỗ

Thời gian giao hàng: 5-6 tháng

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

Máy phủ CVD nhiệt độ cao lên đến 1000 °C dự án Trung Quốc và bàn tay

Tổng công suất: Khoảng 40/50/60/80kw

Các chất nền lớp phủ: Kim loại, gốm, thủy tinh, v.v.

Nhận được giá tốt nhất

Cửa lò lắng đọng hơi CVD/CVI tiên tiến cho TiC TiN TiCN a-AL2O3 và K-AI2O3 lớp phủ ở nhiệt độ quá trình 700-1050C

Nhiệt độ xử lý ((oC): 700-1050

Các loại lớp phủ: TiC,TiN,TiCN,a-AL2O3,K-AI2O3

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

Phòng bọc hợp kim nhiệt độ điện kháng nóng lò CVD cho các chất nền kim loại hoặc gốm có kích thước tùy chỉnh

phương pháp phủ: Lắng đọng hơi hóa học (CVD)

Tổng công suất: Khoảng 40/50/60/80kw

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

Trung Quốc CVD Manufactures, Silicon Carbide Coating Machine

Không gian hiệu quả (mm): 1000*1000*1500

Công suất sưởi (KVA): 300

Nhận được giá tốt nhất

TiC/TiN/TiCN/a-Al2O3/k-Al2O3 lớp phủ CVD lò với điều khiển nhiệt độ 700-1050 °C

Khu vực sưởi ấm: 4pcs/5pcs

Nhiệt độ tối đa:: 1100℃

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

Nhà cung cấp Trung Quốc Lò thiêu kết áp suất khí nhiệt độ cao cacbua vonfram 1-20MPA

Packaging Details: Wooden cases

Delivery Time: 5-6 months

Nhận được giá tốt nhất

Băng hình

1500C CVD SIC Epitaxy Growth Furnace cho Silicon Carbide Growth trong 1000 * 1000 * 1500mm Không gian hiệu quả

Không gian hiệu quả (mm): 1000*1000*1500

Công suất sưởi (KVA): 300

Nhận được giá tốt nhất

1 2

Gửi yêu cầu của bạn trực tiếp đến chúng tôi